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企业介绍 3纳米芯单方积比5纳米产品萎缩35% 耗电量缩短50%

发布时间:2020-01-13 17:53 作者:admin 来源:未知 点击:152 字号:

三星电子将在最新的3纳米工程中行使分别于其他工程的新一代工艺“GAA”。三星电子负责半导体产业的部分外示,基于GAA工艺的3纳米芯单方积能够比比来完善开发的5纳米产品面积萎缩35%以上,耗电量缩短50%,处理速度可挑高30%旁边。

据晓畅,三星电子计划行使极紫外光刻(EUV)工艺企业介绍,挑高在7纳米以下邃密工程市场的份额。3纳米级半导体工艺计划最先行使到三星的晶圆代工(foundry)工程之中。三星计划明年下半年在全球最早实现3纳米级芯片的批量生产。

三星电子副会长李在镕近日参不益看正在开发“全球第一个3纳米级半导体工艺”的韩国京畿道华城半导体工厂企业介绍,并听取了关于3纳米工艺技术的通知企业介绍,他还与三星电子半导体部分社长团商议了新一代半导体战略。

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